半导体设备性能参数追平国际水平这家细分龙头透露当前订单饱满科创板调研掘金

今日，拓景科技披露了机构调研总结。从1元、7元到31元、7元，公司迎来102家机构调研，包括GIC、瑞银资产管理、摩根士丹利等众多国外知名机构。

拓晶科技专注于高端半导体专用设备，主要产品包括等离子体增强化学气相沉积设备、原子层沉积(ALD)设备、亚大气压化学气相沉积(SACVD)设备三大系列。值得注意的是，该公司也是国内唯一面向工业应用的集成电路PECVD和SACVD设备制造商，产品已在SMIC、华虹集团、长江存储等国内主流晶圆厂得到广泛应用。

本次调查中，拓晶科技表示，上半年公司紧跟下游晶圆厂扩产步伐，积极推动订单签约。目前公司手头订单满。

在产品技术方面，拓晶科技提到，其三大产品自主研发形成的核心技术达到国际先进水平，产品整体性能和关键参数达到国际同类设备水平。

其中，在PECVD产品上，拓晶科技表示基本可以实现28元nm及以上各类薄膜工艺的覆盖，包括通用介质膜、高级介质膜、硬掩膜。

此外，公司继续看好PECVD的市场发展潜力，认为PECVD是应用最广泛的薄膜沉积设备。预计未来几年，PECVD设备市场仍将呈增长趋势。

拓景科技还披露了其他产品在调查中的进展。公司PEALD设备55元、Kramp-Karrenbauer、14元即可覆盖逻辑芯片NMS ADP、STI工艺、存储领域，产品已实现产业化。ThermalALD主要用于28元nm以下的工艺逻辑芯片。目前根据客户指标进行优化设计和验证测试。

关于先进生产线的进度，拓晶科技透露，其目前在14元nm及以下先进生产线上使用的产品主要在验证中，设备验证的进度需要根据客户的节奏来确定。

对于下游客户的持续拓展，拓景科技回应称，公司一直紧跟客户拓展步伐，积极提升公司现有产品的市场份额。但目前由于很多客户没有通过公开招标采购设备，所以公司产品在客户中所占比例没有具体统计。